ESTUDO DE DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS EM PLASMAS DE AR/AR-H2 EM REGIÕES DE PÓS-DESCARGA DE CATODO OCO - Silva, Bruno Felipe Costa da; Santos, Edson José da Costa; Almeida, Edalmy Oliveira de; Guerra, Paulo Victor de Azevedo Guerra; Hékis, Hélio Roberto; Coutinho, Karilany Dantas; Junior, Clodomiro Alves; Guerra Neto, Custódio Leopoldino de Brito (Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde - ISSN:2236-1103, 2015)
O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio no catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnostico na pós-descarga e os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposição, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das espécies de argônio com a introdução de gás hidrogênio.